多孔材料表面Zeta電位分析儀

原理簡介：

APS 從聲衰減光譜測量產(chǎn)生PSD數(shù)據(jù)，不需要稀釋樣品。APS還測量粒度范圍的10納米到100微米的樣品的聲音速度譜、pH、電導(dǎo)率和溫度。

當(dāng)聲音穿越泥漿或膠體時，是衰減的。衰減的程度與粒度分布有關(guān)。APS可在1 - 100 MHz的頻率范圍內(nèi)非常準(zhǔn)確地測量聲音衰減。因為聲音穿過所有的物質(zhì)媒介，APS聲音衰減的測量可以在高濃度和/或不透明的樣品中進行。粒子沉降并不是一個問題，因為在測量時樣品可以被攪拌或泵送。APS分析不受樣品的Zeta電勢水平的約束。APS很容易分析零粒子和高電荷。

APS取樣分析是快速和容易的，無需稀釋樣品。稀釋樣品費時，容易出錯，并可能改變樣品的實際PSD。簡單地倒，或者連續(xù)泵送樣品進入到APS的樣品室，APS的直觀的軟件在幾分鐘內(nèi)做玩余下的工作。

計算詳細(xì)PSD數(shù)據(jù)的技術(shù)，不需要假設(shè)PSD形狀。其他類型的儀器，例如光散射，意味著軟件或操作者假設(shè)或猜測PSD是單峰、雙峰、對數(shù)正態(tài)或高斯分布的。這種假設(shè)可能導(dǎo)致數(shù)據(jù)不可靠。

專門的APS硬件設(shè)計簡化了操作，同時減少維護。這個設(shè)計適合研發(fā)以及重復(fù)質(zhì)量控制測量。APS也適合過程在線操作。

多孔材料表面Zeta電位分析儀

主要用途：

1)半導(dǎo)體化學(xué)機械拋光(CMP)料漿；

2)陶瓷；

3)油墨；

4)乳劑穩(wěn)定性；

5)藥品；

6)生物膠體；

7)熒光粉；

8)有機和無機顏料如Ti02和炭黑；

9)催化劑；

10)礦物；

11)聚合物乳液；

12)水和非水分散體系；

技術(shù)參數(shù)：

1)完整的粒度分布,而不是簡單的平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差大小的數(shù)據(jù)；

2)不需要稀釋樣品；

3)不需要假設(shè)PSD形狀；

4)粒度范圍：0.005-100微米；

5)無電解質(zhì)干涉；

6)可測量水的/非水的/不透明的/粘性的樣品；

7)可測量縱向粘度，60%固體，PH值，電導(dǎo)率，溫度，聲衰減和聲速度譜；

8)具有自動滴定選項；

9)專門技術(shù)：1-100MHz聲衰減譜；

10)溶劑：水/非水；

11)樣品固體%：0.1-60%體積比；

12)樣品體積：標(biāo)準(zhǔn)是120ml，50ml小體積可用；